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    美國Filmetrics優(yōu)尼康-Zeta-388 白光共聚焦

    美國Filmetrics優(yōu)尼康-Zeta-388 白光共聚焦Zeta-388 白光共聚焦Zeta-388 Optical ProfilerZeta-388支持3D量測和成像功能,并提供整合隔離工作臺和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統(tǒng),可實現(xiàn)全自動測量。該系統(tǒng)采用ZDot 技術,可同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。Zeta-388具備Multi-Mode(多模式)光學

    美國Filmetrics優(yōu)尼康-Zeta-388 白光共聚焦
    圖片關鍵詞

    Zeta-388 白光共聚焦

    Zeta-388 Optical ProfilerZeta-388支持3D量測和成像功能,并提供整合隔離工作臺和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統(tǒng),可實現(xiàn)全自動測量。該系統(tǒng)采用ZDot 技術,可同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。Zeta-388具備Multi-Mode(多模式)光學系統(tǒng)、簡單易用的軟件、低擁有成本,以及SECS / GEM通信,適用于研發(fā)及生產環(huán)境。

    • 產品名稱: 白光共聚焦顯微鏡

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    • 品牌: KLA

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    • 產品型號: Zeta-388

    •  

    • 產地: 美國

    Zeta-388 Optical Profiler



    詳情圖.png

      Zeta-388支持3D量測和成像功能,并提供整合隔離工作臺和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統(tǒng),可實現(xiàn)全自動測量。該系統(tǒng)采用ZDot技術,可同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。Zeta-388具備Multi-Mode(多模式)光學系統(tǒng)、簡單易用的軟件、低擁有成本,以及SECS / GEM通信,適用于研發(fā)及生產環(huán)境。


    產品描述

      Zeta-388光學輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測量系統(tǒng)。 Zeta-388繼承了Zeta-300的功能,并增加了晶圓盒至晶圓盒機械臂,可實現(xiàn)全自動測量。該系統(tǒng)采用ZDot技術和Multi-Mode (多模式)光學系統(tǒng),可以對各種不同的樣品進行測量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級別的臺階高度。


      Zeta-388的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學量測技術。ZDot測量模式可同時收集高分辨率3D掃描和True Color無限遠焦距圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。ZDot或集成寬帶反射計都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta-388也是一款顯微鏡,可用于樣品檢查或自動缺陷檢測。Zeta-388通過提供臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能,以及晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送,適用于研發(fā)及生產環(huán)境。


    主要功能

    •       采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學器件的簡單易用的光學輪廓儀,具有廣泛的應用

    •       可用于樣品復檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡

    •       ZDot:同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像

    •       ZXI:白光干涉測量技術,適用于z向分辨率高的廣域測量

    •       ZIC:干涉對比度,適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數據

    •       ZSI:剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像

    •       ZFT:使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

    •       AOI:自動光學檢測,并對樣品上的缺陷進行量化

    •       生產能力:通過測序和圖案識別實現(xiàn)全自動測量

    •       晶圓傳送機械臂: 自動加載直徑為50mm至200mm的不透明(如硅)和透明(如藍寶石)樣品


    主要應用

    •       臺階高度:納米到毫米級別的3D臺階高度

    •       紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

    •       外形:3D翹曲和形狀

    •       應力:2D薄膜應力

    •       薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度

    •       缺陷檢測:捕獲大于1μm的缺陷

    •       缺陷復檢:采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

    工業(yè)應用

    •       LED:發(fā)光二極管和PSS(圖案化藍寶石基板)

    •       半導體和化合物半導體

    •       半導體 WLCSP(晶圓級芯片級封裝)

    •       半導體FOWLP(扇出晶圓級封裝)

    •       PCB和柔性PCB

    •       MEMS(微機電系統(tǒng))

    •       醫(yī)療設備和微流體設備

    •       還有更多:請與我們聯(lián)系以滿足您的要求